一、集成电路生产用超纯水设备概述
集成电路生产用超纯水设备依据集成电路用水需求，采用反渗透技术和EDI技术相结合，经过反渗透技术过滤掉水中的大部分杂质，再经过EDI深度处理，完全去掉水中的导电离子，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足集成电路生产用水需求。
二、集成电路生产用超纯水设备工作原理
供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，SHU脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。
三、集成电路生产用超纯水设备工艺流程
自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
四、集成电路生产用超纯水设备特点
该系统由单片机(PLC)控制，一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能(自动制水、自动冲洗、原水缺水/水箱满水自动停机)。
系统结构布置紧凑，占地面积小，有效节约空间。
系统能耗低，有效节约能源。
耗材寿命长，制水成本低廉。
系统运行可靠，供水管路封闭，出水水质稳定。
